中科院突破5nm加工法

 

 

現在當今世界,5nm芯片生產工藝可以說是最尖端的科技,國內現在最先進的中芯國際公司也才剛剛突破N+1生產工藝,能夠實現大概7納米生產工藝水平。近日中科院表示張子旸團隊光刻方面取得研究進展,在5nm光刻工藝上研發出來一種新型的5nm芯片的加工方法。當前在5nm芯片加工生產中,主流生產技術是光刻技術和極紫光光刻技術兩種,而張子旸團隊的5nm工藝則是在無掩模光刻技術上的一項研究。傳統中的無掩模光刻技術的成本非常低,但是激光的精度卻難以掌控,這也是這項技術難以量產應用的原因。

 

 

 

 

張子旸團隊本次研究的就是無掩膜光刻技術,通過雙激光束交疊技術達到了5納米的光刻精度,能夠實現5納米芯片的生產。這樣的技術不僅讓無掩模光刻機光刻精度大大提升,達到了生產5nm芯片的要求,而且生產效率也有所提高。據中國微米納米技術學會報道,中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所張子旸研究員,與國家納米科學中心劉前研究員合作,在其發表的論文講述了該團隊開發的新型5nm超高精度激光光刻加工方法。

 

 

 

 

當然,這個還是一個實驗室的技術,想成功應用到生產當中去,可能還需要不短的路要走,但是畢竟5nm光刻新技術已經實現突破,接下來只要在設備制造和生產商再次獲得突破,那么未來可能5nm直刻技術就能夠很好的應用到生產中去。而且現在張子旸團隊在5nm芯片生產研發獲得突破,采用的設備應該全部是自研設備,如果未來這項技術能夠獲得量產的話,那么我國芯片制造產業可能將會實現飛躍發展。

 

 

 

 

從現在來看,國內在芯片制造領域內也在做兩方面的準備和研究。一個是激光直刻技術,另一個是研發更先進的EUV光刻機。如果這兩個芯片光刻方面的頂尖設備和頂尖生產技術,科研院所以及企業能夠獲得更快的突破,那么未來我國生產5納米芯片,甚至是更先進的3納米,2納米的芯片都將成為可能。

 

 

 

2020-10-28
新聞資訊/NEWS
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